EH2: ポンプ・プローブステーション

XFELの超短パルス特性を活用することにより、 化学反応や各種相転移における原子・電子のダイナミクスをフェムト秒スケールで探索することが可能となります。 本ステーションでは、 XFELとフェムト秒同期光学レーザーとの組み合わせにより、 フェムト秒領域のポンプ・プローブ計測が行われます。 共用実験装置として、 回折計・チャンバー類の準備が進められており、 固相 (結晶、 非結晶)、 液相、 気相試料からのフェムト秒回折・散乱像がMPCCDによって記録されます。

1.基盤装置・設備

・フェムト秒同期光学レーザー(CPA+OPA)
ハッチ内に設置された共用定盤上でレーザーの整形・加工を行い、 XFELと同軸で下流の実験装置・試料に輸送することが可能です。 XFELとのタイミング制御は、 電気式遅延装置及び光学式ディレイステージを用いて行われます。
・MPCCD(シングルセンサー)

2.模式図

3. 平面図

4.共用実験装置

・汎用多軸回折計　　※詳細はコンポーネントカタログへ
汎用多軸ステージ類の組み合わせによって試料 (気体・溶液・固体) に応じた透過・反射回折計測を行います。 図1のように、 検出器アームにはMPCCD(シングルセンサー)・フォトダイオード等が装着可能で、 これを回転することによって低角から高角側までのX線散乱の計測を行います。汎用セットアップでは、 カメラ長は100mm〜400mmです。

図 1汎用多軸回折計の使用例

・汎用大型回折計　　※詳細はコンポーネントカタログへ
様々な回折散乱実験を行います。 検出器としては、 MPCCDやフォトダイオードを2θアームに装着でき、 1000mm以上のカメラ長が可能です。