EH3: コヒーレント集光ステーション

コヒーレント光源であるXFELは、 回折限界集光により極めて高いパワー密度強度を達成することが可能です。 本ステーションには、 高精度なミラー集光システムが常設されており、 1ミクロンのコヒーレント集光X線を簡便に利用することができます。 主な利用実験として、 微小試料 (非結晶・結晶) のコヒーレント回折・散乱、 AMO, 非線形光学等が想定されており、 共用実験装置として、 生体試料用クライオ照射装置、 汎用イメージング装置、 時間分解多元分光装置等の準備が進められています。 これらの装置には、 大面積の2次元検出器が接続可能です。 また、 本ステーションではフェムト秒同期光学レーザーのCPA出力が利用でき、 集光XFELとのポンプ・プローブ計測を行うことが可能です。

1.基盤装置・設備

・1ミクロン集光装置
超高精度のKBミラーを用いて、 XFEL(非集光時のサイズ: 約100ミクロン) を1ミクロンレベルにまで集光し、 極めて高いパワー密度・フルエンスを実現します。
・同期レーザー (CPA)
・MPCCD (オクタルセンサー)

2.模式図

3. 平面図

EH3

EH4

EH5

4．共用実験装置

・生体分子単粒子解析用クライオ試料固定照射装置　壽壱号・御柱弐号　　※詳細はコンポーネントカタログへ
結晶化が絶望的または原理的に不可能な百ナノメートル〜ミクロンサイズ生体・材料非結晶粒子、サブミクロン結晶の低温Ｘ線構造解析を行うための基盤装置です



・ PreMAXIC 　　※詳細はコンポーネントカタログへ
コヒーレント回折・散乱実験を行うための基盤装置です。固体ターゲットとともに、 液体/気体ジェット試料の導入が可能です。
アタッチメント: 液体ビーム導入装置




・ 時間分解多元分光装置　　※詳細はコンポーネントカタログへ
XFELと分子・クラスター・ナノ構造体の相互作用、ナノプラズマ生成・緩和過程、損傷等の研究、ナノ構造体の光励起反応の時間分解計測を行うための基盤的な共用装置です。